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明星產(chǎn)品
介紹
Zell Shield?是一種即用型高濃度新型復(fù)合抗生素,無(wú)細(xì)胞毒性,通過(guò)阻止原核生物DNA及蛋白的合成,有效地祛除細(xì)胞培養(yǎng)中遇到的支原體、細(xì)菌、霉菌和酵母污染。Zell Shield?可常規(guī)添加到培養(yǎng)基中,保護(hù)細(xì)胞免受支原體的污染。
特點(diǎn)
1. 高效廣譜
祛除支原體效果明顯,同時(shí),對(duì)細(xì)胞內(nèi)外的革蘭氏陰性菌、革蘭氏陽(yáng)性菌、病原蟲(chóng)、霉菌和酵母等污染亦可有效預(yù)防。
2. 無(wú)細(xì)胞毒性
Zell Shield?對(duì)大多數(shù)細(xì)胞株都不會(huì)產(chǎn)生細(xì)胞毒性。
3. 抗支原體活性穩(wěn)定
在細(xì)胞培養(yǎng)期內(nèi),Zell Shield?始終保持穩(wěn)定的活性。
4. 操作簡(jiǎn)便
即用型,直接加入到培養(yǎng)基中。
使用方法
該產(chǎn)品為無(wú)菌溶液,100倍濃縮。1瓶(50mL)Zell Shield?足夠供5L培養(yǎng)基使用(500ml培養(yǎng)基添加5ml Zell Shield?,再混勻)。
Zell Shield?可直接添加到任何動(dòng)物細(xì)胞培養(yǎng)基中,37℃孵育7天后需更換,以達(dá)到最大的防護(hù)效果。
支原體污染祛除方法
據(jù)研究表明,約98%的支原體存在于細(xì)胞表面和細(xì)胞間隙。支原體直徑約180~350nm,比細(xì)胞小很多,經(jīng)低速離心與細(xì)胞分離。通過(guò)反復(fù)懸浮沖洗、離心,加上使用Zell Shield?,即可在細(xì)胞培養(yǎng)四代以?xún)?nèi)有效地祛除支原體。
1.首先把被支原體污染的細(xì)胞消化下來(lái),放入離心管離心,棄上清。再加入干凈的PBS懸浮沖洗細(xì)胞、低速離心(300~500r/min)、棄上清,反復(fù)三次。這樣可祛除細(xì)胞表面60%~70%的支原體,支原體還剩約30%~40%。
2.細(xì)胞加入含1%Zell Shield?的新鮮培養(yǎng)基,傳代培養(yǎng)。這時(shí)因培養(yǎng)基中Zell Shield?的抑制作用,細(xì)胞培養(yǎng)過(guò)程中,雖然細(xì)胞增殖,但殘留的支原體無(wú)法增殖。細(xì)胞需再次傳代時(shí),把第二代細(xì)胞消化下來(lái),離心,棄上清。加入新鮮PBS懸浮沖洗、再離心、棄上清,反復(fù)三次。這時(shí),細(xì)胞上殘留的支原體大約已剩余為最初污染量的10%左右。
3.細(xì)胞加入含1%Zell Shield?的新鮮培養(yǎng)基,傳代培養(yǎng)。需再次傳代時(shí),把第三代細(xì)胞消化下來(lái),離心,棄上清。加入新鮮PBS懸浮沖洗、再離心、棄上清,反復(fù)三次,可再次祛除60%~70%的殘余支原體。通過(guò)沖洗、抑制、換液等操作,細(xì)胞中支原體的殘留污染量大約只剩3%左右。
4.細(xì)胞加入含1%Zell Shield?的新鮮培養(yǎng)基,傳代培養(yǎng)。需再次傳代時(shí)把第四代細(xì)胞消化下來(lái),離心,棄上清。加入新鮮PBS懸浮沖洗、再離心、棄上清,反復(fù)三次,可再次祛除60%~70%的支原體。此時(shí),支原體殘留量大約已低于1%。
支原體的增殖亦有密度要求,用Zell Shield?處理過(guò)四代的細(xì)胞,即便撤掉Zell Shield?,只要保證沒(méi)有新的支原體人為再次帶入,原有支原體也無(wú)法再增殖。隨著傳代,換液,支原體的老化、死亡,細(xì)胞中的支原體污染基本就徹底解決了。
要點(diǎn)歸納:
1.每次傳代時(shí),重復(fù)三次對(duì)細(xì)胞懸浮沖洗步驟非常重要,操作要正確、規(guī)范,以達(dá)最佳效果!
2.在培養(yǎng)基中加入1%Zell Shield?,抑制支原體增殖!
3.使用安全的血清、培養(yǎng)基等試劑,不再有新的支原體加入!
做到以上三點(diǎn)即可確保祛除支原體污染。